用途：排蜡烘坯炉适用于玻璃**缘子的排蜡和烘坯公艺，也可用于烧结、退火等工艺。

L65614-64J/RZQ**功能微控扩散系统 该系统是生产半导体器件和大规模集成电路的重要设备。 1、系统组成：a)扩散炉主机 b)推拉舟及层流净化台 c)气源柜 d)排**柜 e）微机控制柜 2、扩散炉管数：1～4管/台

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单双管卧式真空烧结炉L4611Ⅱ-C/RZQ 主要技术指标：产品名称：平行双工位真空烧结炉规格：内φ130㎜×1100mm使用温度：1200℃工作温度：1150℃真空室等温**度：≥400mm

链（带）式烧结炉 该链（带）式炉主要由加热部分、精密温度自动控制系统、机械结构、**氮保护装置等组成。主要用于半导体器件烧结、封焊、焊接及集成电路金属化管壳等气密性封装，玻璃容器的烧结及各种零件在**氮保护下进行的热处理，运载能力大，并采用水、气电转换器控制

本设备适用于对其有内腔的微电子器件和半导体器件的气密性进行粗检漏，可利用**氮化合物进行一步粗检漏及二步粗检漏，也可与氦质谱检漏仪相配合，利用氦气进行检漏。

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马弗炉L22-I/RZQ 1. 名称：马弗炉2. 型号：L22-I/RZQ3. 用途：主要用于烧结、退火、热处理等工艺。4. 主要技术指标：4.1. 温度：1350℃